退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。本期东台市意为龙窑炉设备有限公司带大家了解一下退火工艺和退火的目的。

　　一、退火工艺简介：

　　退火是一种金属热处理工艺，指的是将金属缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却，有时是自然冷却，有时是控制速度冷却的热处理方法。

　　二、退火的目的：

　　1. 降低硬度，软化工件，改善切削加工性。

　　2. 改善或消除钢铁在铸造、锻压、轧制和焊接过程中造成的各种组织缺陷以及残余应力，减少工件变形、开裂或裂纹倾向。

　　3. 细化晶粒，改善组织以提高工件的机械性能，消除组织缺陷。

　　4. 均匀材料组织和成分，改善材料性能或为以后热处理，如退火、回火做好组织准备。

　　在实际生产中，退火工艺应用很广泛，根据工件要求退火的目的不同，退火热处理有多种工艺，常用的有完全退火、球化退火、去应力退火等。

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